RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Физика и техника полупроводников // Архив

Физика и техника полупроводников, 2010, том 44, выпуск 3, страницы 335–337 (Mi phts8769)

Эта публикация цитируется в 22 статьях

Полупроводниковые структуры, границы раздела и поверхность

Фоточувствительность гетеропереходов $n$-CdS/$p$-CdTe, полученных химическим поверхностным осаждением CdS

Г. А. Ильчукa, В. В. Кусьнэжa, В. Ю. Рудьb, Ю. В. Рудьc, П. Й. Шаповалa, Р. Ю. Петрусьa

a Национальный университет ``Львовская политехника''
b Санкт-Петербургский политехнический университет Петра Великого
c Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук, г. Санкт-Петербург

Аннотация: Разработана новая технология химического поверхностного осаждения и получены тонкие пленки CdS (35–100 нм) на подложках $p$-CdTe. Исследованы электрические и фотоэлектрические свойства гетеропереходов $n$-CdS/$p$-CdTe, и показано, что развитый метод обеспечивает высокую эффективность фотопреобразования в диапазоне, ограничиваемом ширинами запрещенных зон СdTe и CdS. Показана возможность применения метода химического поверхностного осаждения CdS при создании тонкопленочных солнечных элементов $n$-CdS/$p$-CdTe.

Поступила в редакцию: 01.06.2009
Принята в печать: 08.07.2009


 Англоязычная версия: Semiconductors, 2010, 44:3, 318–320

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2026