RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Физика и техника полупроводников // Архив

Физика и техника полупроводников, 2011, том 45, выпуск 12, страницы 1667–1677 (Mi phts8709)

Эта публикация цитируется в 1 статье

Изготовление, обработка, тестирование материалов и структур

Комплексное исследование условий получения гидрированных аморфных пленок субоксида кремния, легированного эрбием и кислородом, $a$-SiO$_x$:H$\langle$Er,O$\rangle$, с помощью dc-магнетрона

Ю. К. Ундаловa, Е. И. Теруковa, О. Б. Гусевa, В. М. Лебедевb, И. Н. Трапезниковаa

a Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук, г. Санкт-Петербург
b Петербургский институт ядерной физики им. Б.П. Константинова, Национальный исследовательский центр "Курчатовский институт"

Аннотация: Приведены результаты комплексного исследования условий получения пленок $a$-SiO$_x$:H$\langle$Er,O$\rangle$. Изучено влияние состава различных эрбийсодержащих мишененй ($a$-SiO$_x$:H$\langle$Er,O$\rangle$, ErO$_x$, Er$_2$SiO$_5$, Er$_2$O$_3$ и Er), температуры подложки и температуры отжига в аргоне, на воздухе и в условиях горения SiH$_4$+Ar+O$_2$-плазмы. С целью получения пленок $a$-SiO$_x$:H$\langle$Er,O$\rangle$ с наибольшей интенсивностью фотолюминесценции ионов эрбия рекомендовано использовать следующие технологические условия: подложкодержатель должен быть изолирован от электродов dc-магнетрона, состав рабочей газовой смеси должен включать силан, аргон и кислород. В качестве мишеней следует использовать монокристаллический кремний и металлический эрбий. Эрбиевая мишень должна находиться только в зоне эрозии Si-мишени.

Поступила в редакцию: 19.05.2011
Принята в печать: 30.05.2011


 Англоязычная версия: Semiconductors, 2011, 45:12, 1604–1616

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2026