Лазеры с сильнонапряженной квантовой ямой GaInAs с компенсирующими слоями GaAsP, излучающие на длине волны 1220 нм, выращенные методом МОС-гидридной эпитаксии на подложке GaAs
Аннотация:
Проведены фотолюминесцетные исследования гетероструктур с активной областью, состоящей из квантовой ямы Ga$_{0.59}$In$_{0.41}$As, помещенной между компенсирующими слоями GaAs$_{1-y}$P$_y$. Показано, что с увеличением содержания фосфора P в компенсирующих слоях можно получить нерелаксированную гетероструктуру с квантовой ямой Ga$_{0.59}$In$_{0.41}$As большей толщины. На основании фотолюминесцентных исследований выбраны параметры составной активной области для обеспечения максимальной длины волны излучения. Методом МОС-гидридной эпитаксии на подложках GaAs выращены лазерные гетероструктуры с активной областью, состоящей из сильнонапряженной квантовой ямы Ga$_{0.59}$In$_{0.41}$As, помещенной между компенсирующими слоями GaAs$_{0.85}$P$_{0.15}$. Изготовлены мезаполосковые лазерные диоды с апертурой 100 мкм, излучающие на длине волны 1220 нм. Максимальная мощность излучения в непрерывном режиме генерации для лазерных диодов составила 2 Вт на зеркало.
Поступила в редакцию: 14.03.2011 Принята в печать: 21.03.2011