Лазеры с сильно напряженной квантовой ямой GaInAs с компенсирующими слоями GaAsP, излучающие на длине волны 1190 нм, выращенные методом МОС-гидридной эпитаксии на подложке GaAs
Аннотация:
Методом МОС-гидридной эпитаксии на подложках GaAs выращены лазерные гетероструктуры с активной областью, состоящей из сильно напряженной квантовой ямы GaInAs, помещенной между компенсирующими слоями GaAsP. Изготовлены мезаполосковые лазерные диоды с апертурой 100 мкм, излучающие на длине волны 1190 нм. Максимальная мощность излучения в непрерывном режиме генерации для лазерных диодов составила 4.5 Вт на зеркало. Использование компенсирующих барьеров GaAsP позволило получить нерелаксированную квантовую яму GaInAs, что проявилось в отсутствии разброса максимальной мощности излучения для лазерных диодов, полученных из одной лазерной гетероструктуры.
Поступила в редакцию: 15.02.2011 Принята в печать: 21.02.2011