RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Физика и техника полупроводников // Архив

Физика и техника полупроводников, 2011, том 45, выпуск 5, страницы 666–671 (Mi phts8541)

Эта публикация цитируется в 21 статьях

Физика полупроводниковых приборов

Влияние встроенного электрического поля на оптические и электрофизические свойства P-HEMT наногетероструктур AlGaAs/InGaAs/GaAs

Р. А. Хабибуллинa, И. С. Васильевскийa, Г. Б. Галиевb, Е. А. Климовa, Д. С. Пономаревa, В. П. Гладковa, В. А. Кульбачинскийc, А. Н. Клочковab, Н. А. Юзееваb

a Национальный исследовательский ядерный университет "МИФИ", г. Москва
b Институт сверхвысокочастотной полупроводниковой электроники РАН, г. Москва
c Московский государственный университет имени М. В. Ломоносова

Аннотация: Исследованы спектры фотолюминесценции и электрофизические параметры P-HEMT структур AlGaAs/InGaAs/GaAs с различной глубиной залегания $L_b$ квантовой ямы относительно поверхности. Образцы изготавливались с постоянной концентрацией электронов в квантовой яме при уменьшении слоя $L_b$. Установлено, что в спектрах фотолюминесценции для всех образцов присутствуют пики в областях энергии $\hbar\omega$ = 1.28–1.30 и $\hbar\omega$ = 1.35–1.38 эВ, отношение интенсивности которых увеличивается при уменьшении $L_b$. Расчеты зонной структуры показали, что изменение спектров связано с увеличением встроенного электрического поля при приближении квантовой ямы к поверхности.

Поступила в редакцию: 01.11.2010
Принята в печать: 08.11.2010


 Англоязычная версия: Semiconductors, 2011, 45:5, 657–662

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2026