Аннотация:
На чистых и легированных кристаллах TlBr, выращенных методом направленной кристаллизации расплава по Бриджмену–Стокбаргеру, измерялся токовый отклик в поле источника $\gamma$-излучения $^{137}$Cs мощностью поглощенной дозы от 0.033 до 3.84 Гр/мин в диапазоне напряжений 1–300 В. Весовая доля вносимой примеси Pb в кристаллах TlBr составляла 1–10 млн$^{-1}$, а примеси Ca – 150 млн$^{-1}$. На номинально чистых образцах TlBr отклик фототока достаточно линеен в исследованном диапазоне мощностей доз. Глубокие дырочные уровни, связанные с катионными вакансиями $V_c^-$, определяли зависимость токового отклика от напряжения фототока в больших электрических полях. Были рассчитаны параметры переноса носителей тока $\mu\tau$ для кристаллов TlBr, выращенных в вакууме и в атмосфере брома, произведения $\mu\tau$ составили 4.3 $\cdot$ 10$^{-4}$ и 6.4 $\cdot$ 10$^{-5}$ см$^2$B$^{-1}$ соответственно. На примесных кристаллах, легированных двухвалентным катионом, величина $\mu\tau$ была в пределах (4–9) $\cdot$ 10$^{-5}$ см$^2$B$^{-1}$.
Поступила в редакцию: 20.10.2010 Принята в печать: 22.10.2010