Аннотация:
Проведен анализ вольт-амперных характеристик поверхностно облучаемых фотодиодов на основе структур InAsSbP/InAs, учитывающий сгущение линий тока вблизи контактов, с использованием экспериментальных данных о распределении интенсивности электролюминесценции по поверхности диодов. Обсуждено влияние потенциального барьера, связанного с переходом $N$-InAsSbP/$n$-InAs в двойных гетероструктурах, на дифференциальное сопротивление диодов при нулевом смещении, величину обратного тока и на растекание прямого тока.
Поступила в редакцию: 19.10.2010 Принята в печать: 22.10.2010