RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Физика и техника полупроводников // Архив

Физика и техника полупроводников, 2025, том 59, выпуск 7, страницы 439–444 (Mi phts8416)

Физика полупроводниковых приборов

Влияние морфологии подложек InP на шероховатость интерфейсов и дефектность гетероструктур квантово-каскадных лазеров

Д. С. Папылевa, И. И. Новиковab, В. В. Андрюшкинab, А. Г. Гладышевb, В. В. Дюделевc, Л. Я. Карачинскийab, А. В. Бабичевa, И. А. Няпшаевc, А. Ю. Егоровbc, Г. С. Соколовскийc

a Санкт-Петербургский национальный исследовательский университет информационных технологий, механики и оптики, 197101 Санкт-Петербург, Россия
b ООО "Коннектор Оптикс", 194292 Санкт-Петербург, Россия
c Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук, 194021 Санкт-Петербург, Россия

Аннотация: Исследовано влияние подложек InP различных производителей на структурные характеристики гетероструктур квантово-каскадных лазеров, выращенных методом молекулярно-пучковой эпитаксии на заращенных методом металлорганической газофазной эпитаксии темплейтах. Комплексный анализ методами рентгеновской рефлектометрии и оптической дефектометрии выявил уменьшение среднеквадратичного значения шероховатости интерфейсов на 42–47% и уменьшение плотности точечных дефектов в 1.5–4.0 раза при использовании подложек одного производителя при одинаковых номинальных параметрах подложек. Результаты подтверждают критическую роль качества подложек в снижении плотности точечных дефектов и шероховатости интерфейсов гетероструктур квантово-каскадных лазеров.

Ключевые слова: квантово-каскадный лазер, шероховатость интерфейсов, дефекты, рентгеновская рефлектометрия, гетероструктура.

Поступила в редакцию: 18.09.2025
Исправленный вариант: 23.10.2025
Принята в печать: 05.11.2025

DOI: 10.61011/FTP.2025.07.62009.8580



© МИАН, 2026