RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Физика и техника полупроводников // Архив

Физика и техника полупроводников, 2012, том 46, выпуск 10, страницы 1304–1308 (Mi phts8345)

Эта публикация цитируется в 5 статьях

Полупроводниковые структуры, низкоразмерные системы, квантовые явления

Композитные InGaN/GaN/InAlN-гетероструктуры, излучающие в желто-красной области спектра

А. Ф. Цацульниковab, В. В. Лундинab, Е. Е. Заваринab, А. Е. Николаевab, А. В. Сахаровab, М. М. Рожавскаяab, С. О. Усовab, П. Н. Брунковa, М. А. Синицынab, Д. В. Давыдовab, М. Н. Мизеровb, Н. А. Черкашинc

a Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук, 194021 Санкт-Петербург, Россия
b Научно-технологический центр микроэлектроники и субмикронных гетероструктур РАН, 194021 Санкт-Петербург, Россия
c Center for Material Elaboration & Structural Studies (CEMES) of the National Scientific Research (CNRS), 31055 Toulouse, France

Аннотация: Представлены результаты исследований свойств композитных гетероструктур InGaN/GaN/InAlN. Показано, что в слое InAlN наблюдается значительная фазовая сепарация, которая приводит к формированию трехмерных островков, состоящих из областей AlN–InAlN–AlN. Размеры этих островков зависят как от толщины слоя InAlN, так и от условий эпитаксиального роста. Использование прерываний во время роста InAlN позволяет влиять на структурные свойства островков InAlN. Использование композитных гетероструктур InGaN/GaN/InAlN со слоем InGaN высокого состава в качестве активной области светодиодных структур позволяет получить излучение в желто-красном диапазоне длин волн 560–620 нм.

Поступила в редакцию: 05.03.2012
Принята в печать: 15.03.2012


 Англоязычная версия: Semiconductors, 2012, 46:10, 1281–1285

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2026