RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Физика и техника полупроводников // Архив

Физика и техника полупроводников, 2012, том 46, выпуск 9, страницы 1130–1137 (Mi phts8318)

Эта публикация цитируется в 5 статьях

Электронные свойства полупроводников

Особенности механизмов проводимости полупроводника $n$-HfNiSn, сильно легированного акцепторной примесью Co

В. А. Ромакаab, P. Roglc, Ю. В. Стадныкd, В. В. Ромакаb, E. K. Hlile, В. Я. Крайовскийb, А. М. Горыньd

a Институт прикладных проблем механики и математики им. Я. С. Пидстригача НАН Украины, 79060 Львов, Украина
b Национальный университет ``Львовская политехника'', 79013 Львов, Украина
c Институт физической химии Венского университета, А-1090 Вена, Австрия
d Львовский национальный университет им. И. Франко, 79005 Львов, Украина
e Институт Нееля Национального центра научных исследований, 38042 Гренобль, Франция

Аннотация: Исследованы кристаллическая структура, распределение электронной плотности, энергетические и кинетические характеристики полупроводника HfNi$_{1-x}$Co$_x$Sn, сильно легированного акцепторной примесью Co в диапазонах: $T$ = 80–1620 K и $N^{\mathrm{Co}}_A$ от 9.5 $\cdot$ 10$^{20}$ см$^{-3}$ (при $x$ = 0.05) до 7.6 $\cdot$ 10$^{21}$ см$^{-3}$ (при $x$ = 0.40). Показано, что характер изменения значений энергии активации прыжковой проводимости $\varepsilon^\rho_3(x)$ и амплитуды модуляции зон непрерывных энергий $\varepsilon^\alpha_1(x)$ обусловлен появлением источника доноров в полупроводнике дырочного типа проводимости HfNi$_{1-x}$Co$_x$Sn. Установлено, что легирование $n$-HfNiSn акцепторной примесью Co сопровождается изменением степени компенсации полупроводника из-за одновременного генерирования как структурных дефектов акцепторной природы при замещении атомов Ni атомами Co, так и донорной природы, при частичном занятии атомами Sn позиций атомов Ni. Обсуждение результатов ведется в рамках модели Шкловского–Эфроса сильно легированного и компенсированного полупроводника.

Поступила в редакцию: 30.01.2012
Принята в печать: 14.02.2012


 Англоязычная версия: Semiconductors, 2012, 46:9, 1106–1113

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2026