Аннотация:
Исследованы кристаллическая структура, распределение электронной плотности, энергетические и кинетические характеристики полупроводника HfNi$_{1-x}$Co$_x$Sn, сильно легированного акцепторной примесью Co в диапазонах: $T$ = 80–1620 K и $N^{\mathrm{Co}}_A$ от 9.5 $\cdot$ 10$^{20}$ см$^{-3}$ (при $x$ = 0.05) до 7.6 $\cdot$ 10$^{21}$ см$^{-3}$ (при $x$ = 0.40). Показано, что характер изменения значений энергии активации прыжковой проводимости $\varepsilon^\rho_3(x)$ и амплитуды модуляции зон непрерывных энергий $\varepsilon^\alpha_1(x)$ обусловлен появлением источника доноров в полупроводнике дырочного типа проводимости HfNi$_{1-x}$Co$_x$Sn. Установлено, что легирование $n$-HfNiSn акцепторной примесью Co сопровождается изменением степени компенсации полупроводника из-за одновременного генерирования как структурных дефектов акцепторной природы при замещении атомов Ni атомами Co, так и донорной природы, при частичном занятии атомами Sn позиций атомов Ni. Обсуждение результатов ведется в рамках модели Шкловского–Эфроса сильно легированного и компенсированного полупроводника.
Поступила в редакцию: 30.01.2012 Принята в печать: 14.02.2012