RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Физика и техника полупроводников // Архив

Физика и техника полупроводников, 2013, том 47, выпуск 9, страницы 1215–1220 (Mi phts8013)

Эта публикация цитируется в 8 статьях

Полупроводниковые структуры, низкоразмерные системы, квантовые явления

Электрофизические и оптические свойства приповерхностных квантовых ям AlGaAs/InGaAs/AlGaAs c различной глубиной залегания

Р. А. Хабибуллинa, Г. Б. Галиевa, Е. А. Климовa, Д. С. Пономаревa, И. С. Васильевскийb, В. А. Кульбачинскийc, П. Ю. Боковc, Л. П. Авакянцc, А. В. Червяковc, П. П. Мальцевa

a Институт сверхвысокочастотной полупроводниковой электроники им. В. Г. Мокерова РАН, г. Москва
b Национальный исследовательский ядерный университет "МИФИ", г. Москва
c Физический факультет, Московский государственный университет имени М.В. Ломоносова

Аннотация: Методом молекулярно-лучевой эпитаксии выращена серия гетероструктур с разной глубиной залегания квантовой ямы и приблизительно одинаковой концентрацией двумерных электронов. На основании данных спектроскопии фотоотражения относительно напряженности встроенного электрического поля в образцах проведен расчет зонной структуры для области квантовой ямы. Обнаружено, что максимальная подвижность двумерных электронов $\mu_e$ достигается в образце с толщиной барьерного слоя $L_b$ = 11 нм. Из спектров фотолюминесценции и расчетов зонной структуры образцов установлено, что при приближении квантовой ямы к поверхности происходит пространственное уширение профиля легирования из-за процессов диффузии и сегрегации. Объяснена немонотонность зависимости $\mu_e$ от глубины залегания квантовой ямы.

Поступила в редакцию: 11.12.2012
Принята в печать: 14.12.2012


 Англоязычная версия: Semiconductors, 2013, 47:9, 1203–1208

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2026