RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Физика и техника полупроводников // Архив

Физика и техника полупроводников, 2013, том 47, выпуск 3, страницы 386–391 (Mi phts7859)

Эта публикация цитируется в 8 статьях

Физика полупроводниковых приборов

Сравнение свойств светодиодных кристаллов AlGaInN вертикальной и флип-чип конструкции с использованием кремния в качестве платы-носителя

Л. К. Марковa, И. П. Смирноваa, А. С. Павлюченкоa, М. В. Кукушкинb, Е. Д. Васильеваb, А. Е. Черняковc, А. С. Усиковd

a Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук, г. Санкт-Петербург
b ЗАО Инновационная фирма "ТЕТИC", 194156 Санкт-Петербург, Россия
c Научно-технологический центр микроэлектроники и субмикронных гетероструктур РАН, г. Санкт-Петербург
d De Core Nanosemiconductors Ltd., 382011 Gujarat, India

Аннотация: Проведено сравнение вертикальных и флип-чип светодиодных кристаллов AlGaInN с точки зрения характера растекания тока в активной области, распределения локальных температур и тепловых сопротивлений кристаллов. Были изготовлены светодиодные кристаллы AlGaInN вертикальной конструкции с использованием кремния в качестве подложки-носителя и флип-чип светодиодные кристаллы с удаленной сапфировой подложкой, также размещенные на кремниевой подкристальной плате. Активные области обоих кристаллов совпадали и составили порядка 1 мм$^2$. Было показано, что как светимость поверхности кристалла в видимом диапазоне, так и распределение локальных температур, оцененное по излучению в инфракрасном диапазоне, более однородны в кристалах вертикальной конструкции. Теплоотвод кристаллов флип-чип конструкции недостаточен в областях $n$-контакта, которые не имеют хорошего теплового контакта с подкристальной платой. В итоге суммарные тепловые сопротивления между $p$$n$-переходом и кремниевой платой как кристаллов вертикальной конструкции, так и флип-чип кристаллов составили приблизительно 1 К/Вт. При этом общая площадь кристалла флип-чип конструкции превышает площадь кристалла вертикальной конструкции в 1.4 раза.

Поступила в редакцию: 07.06.2012
Принята в печать: 18.06.2012


 Англоязычная версия: Semiconductors, 2013, 47:3, 409–414

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2026