RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Физика и техника полупроводников // Архив

Физика и техника полупроводников, 2013, том 47, выпуск 2, страницы 258–263 (Mi phts7836)

Эта публикация цитируется в 9 статьях

Поверхность, границы раздела, тонкие пленки

Определение толщины и спектральной зависимости показателя преломления эпитаксиальных слоев Al$_x$In$_{1-x}$Sb из спектров отражения

О. С. Комковa, Д. Д. Фирсовa, А. Н. Семеновb, Б. Я. Мельцерb, С. И. Трошковb, А. Н. Пихтинa, С. В. Ивановb

a Санкт-Петербургский государственный электротехнический университет "ЛЭТИ", 197376 Санкт-Петербург, Россия
b Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук, г. Санкт-Петербург

Аннотация: Реализован неразрушающий метод измерения толщин эпитаксиальных слоев твердых растворов Al$_x$In$_{1-x}$Sb на основе интерференционных эффектов в спектрах отражения, измеренных в широком диапазоне длин волн (1–28 мкм). Исследованные слои Al$_x$In$_{1-x}$Sb толщиной 0.9–3.3 мкм выращены на сильно рассогласованных по периоду решетки подложках GaAs методом молекулярно-пучковой эпитаксии. Полученные значения толщин продемонстрировали хорошее согласие с независимыми данными растровой электронной микроскопии. Спектральная зависимость показателя преломления $n(E)$ слоев Al$_x$In$_{1-x}$Sb измерена как в области прозрачности, так и в области фундаментального поглощения. Показатель преломления для случая $E<E_0$ рассчитывался по двухосцилляторной модели, с использованием уточненной экспериментальной зависимости энергии ширины запрещенной зоны от состава $E_0(x)$. Экспериментальные данные $n(E)$ Al$_x$In$_{1-x}$Sb для энергий $E>E_0$ получены на основе интерференционной картины.

Поступила в редакцию: 07.06.2012
Принята в печать: 18.06.2012


 Англоязычная версия: Semiconductors, 2013, 47:2, 292–297

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2026