RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Физика и техника полупроводников // Архив

Физика и техника полупроводников, 2014, том 48, выпуск 11, страницы 1564–1569 (Mi phts7757)

Эта публикация цитируется в 9 статьях

Изготовление, обработка, тестирование материалов и структур

Структура и оптические свойства тонких пленок Al$_2$O$_3$, полученных методом реактивного ионно-плазменного распыления на подложках GaAs(100)

П. В. Серединa, Д. Л. Голощаповa, А. Н. Лукинa, А. С. Леньшинa, А. Д. Бондаревb, И. Н. Арсентьевb, Л. С. Вавиловаb, И. С. Тарасовb

a Воронежский государственный университет, 394006 Воронеж, Россия
b Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук, 194021 Санкт-Петербург, Россия

Аннотация: Методами структурного анализа и оптической спектроскопии исследованы свойства ультратонких пленок Al$_2$O$_3$, полученных на установке ионно-плазменного распыления. Удалось показать, что используемый технологический метод позволяет получать аморфные, гладкие, ультратонкие пленки, беспористые и практически однородные, с зарождающимися в них кристаллами $\alpha$-фазы оксида алюминия Al$_2$O$_3$. При этом пленки отлично пропускают оптическое излучение в инфракрасном, видимом, ультрафиолетовом диапазонах и потенциально значимы для создания на их основе просветляющих покрытий зеркал мощных полупроводниковых лазеров на основе A$^{\mathrm{III}}$B$^{\mathrm{V}}$.

Поступила в редакцию: 20.03.2014
Принята в печать: 28.03.2014


 Англоязычная версия: Semiconductors, 2014, 48:11, 1527–1531

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2026