RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Физика и техника полупроводников // Архив

Физика и техника полупроводников, 2014, том 48, выпуск 4, страницы 462–466 (Mi phts7558)

Эта публикация цитируется в 10 статьях

Спектроскопия, взаимодействие с излучениями

Нелинейный оптический эффект при облучении GaN малыми кластерными ионами

П. А. Карасевa, К. В. Карабешкинa, А. И. Титовa, В. Б. Шиловb, Г. М. Ермолаеваb, В. Г. Масловc, А. О. Орловаc

a Санкт-Петербургский государственный политехнический университет, 195251 Санкт-Петербург, Россия
b Государственный оптический институт им. С. И. Вавилова, 199053 Санкт-Петербург, Россия
c Санкт-Петербургский национальный исследовательский университет информационных технологий, механики и оптики, 197101 Санкт-Петербург, Россия

Аннотация: Рассмотрено влияние облучения ускоренными атомарными P и молекулярными PF$_4$ ионами с энергией 0.6 кэВ/аем на кристаллическую структуру и оптические свойства монокристаллических пленок GaN. Показано, что облучение малыми кластерами приводит: 1) к более быстрому накоплению структурных дефектов; 2) более сильному подавлению фиолетовой полосы и 3) к меньшим временам затухания ее интенсивности по сравнению с облучением атомарными ионами.

Поступила в редакцию: 17.07.2013
Принята в печать: 19.08.2013


 Англоязычная версия: Semiconductors, 2014, 48:4, 446–450

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2026