Аннотация:
Рассмотрено влияние облучения ускоренными атомарными P и молекулярными PF$_4$ ионами с энергией 0.6 кэВ/аем на кристаллическую структуру и оптические свойства монокристаллических пленок GaN. Показано, что облучение малыми кластерами приводит: 1) к более быстрому накоплению структурных дефектов; 2) более сильному подавлению фиолетовой полосы и 3) к меньшим временам затухания ее интенсивности по сравнению с облучением атомарными ионами.
Поступила в редакцию: 17.07.2013 Принята в печать: 19.08.2013