RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Физика и техника полупроводников // Архив

Физика и техника полупроводников, 2015, том 49, выпуск 10, страницы 1434–1438 (Mi phts7424)

Эта публикация цитируется в 3 статьях

Изготовление, обработка, тестирование материалов и структур

Метаморфные брэгговские отражатели спектрального диапазона 1440–1600 нм: эпитаксия, формирование и заращивание мезаструктур

А. Ю. Егоровabc, Л. Я. Карачинскийabc, И. И. Новиковabc, А. В. Бабичевabcd, Т. Н. Березовскаяd, В. Н. Неведомскийa

a Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук, 194021 Санкт-Петербург, Россия
b Санкт-Петербургский национальный исследовательский университет информационных технологий, механики и оптики, 197101 Санкт-Петербург, Россия
c ООО "Коннектор Оптикс", г. Санкт-Петербург
d Санкт-Петербургский национальный исследовательский Академический университет Российской академии наук, 194021 Санкт-Петербург, Россия

Аннотация: Показана возможность создания метаморфных распределенных брэгговских отражателей In$_{0.3}$Ga$_{0.7}$As/In$_{0.3}$Al$_{0.7}$As с полосой отражения 1440–1600 нм и с коэффициентом отражения не менее 0.999 на подложке GaAs методом молекулярно-пучковой эпитаксии. Продемонстрированы возможность заращивания методом молекулярно-пучковой эпитаксии мезаструктур, изготовленных из метаморфных распределенных брэгговских отражателей на подложке GaAs, а также возможность локального формирования микрорезонаторов за два эпитаксиальных процесса. Полученные результаты найдут широкое применение при формировании вертикально-излучающих лазеров (ВИЛ) с захороненным туннельным переходом.

Поступила в редакцию: 16.04.2015
Принята в печать: 27.04.2015


 Англоязычная версия: Semiconductors, 2015, 49:10, 1388–1392

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2026