RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Физика и техника полупроводников // Архив

Физика и техника полупроводников, 2015, том 49, выпуск 10, страницы 1297–1303 (Mi phts7398)

Эта публикация цитируется в 9 статьях

Неэлектронные свойства полупроводников (атомная структура, диффузия)

Структурные свойства пленок ZnO : Al, полученных золь-гель методом

Е. П. Зарецкаяa, В. Ф. Гременокa, А. В. Семченкоb, В. В. Сидскийb, Р. Л. Юшкенасc

a Научно-практический центр Национальной академии наук Беларуси по материаловедению, 220072 Минск, Белоруссия
b Гомельский государственный университет имени Франциска Скорины, 246699 Гомель, Белоруссия
c Государственный научно-исследовательский институт "Центр по физическим и технологическим наукам", ЛТ-01108 Вильнюс, Литва

Аннотация: Пленки ZnO : Al получены золь-гель осаждением с применением различного типа реагентов при температурах 350–550$^\circ$C. Методами атомно-силовой микроскопии, рентгеновской дифракции, комбинационного рассеяния света и оптического пропускания исследована зависимость структурных, морфологических и оптических свойств ZnO : Al покрытий от условий осаждения. Определены оптимальные условия получения слоев ZnO : Al с преимущественной ориентацией в направлении [001] и низкой шероховатостью поверхности. Полученные слои имеют коэффициент оптического пропускания до 95% в широком спектральном диапазоне и могут быть использованы в приборах оптоэлектроники.

Поступила в редакцию: 12.01.2015
Принята в печать: 05.02.2015


 Англоязычная версия: Semiconductors, 2015, 49:10, 1253–1258

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2026