Л. К. Марков, А. С. Павлюченко, И. П. Смирнова, М. В. Меш, Д. С. Колоколов, А. П. Пушкарев, “Исследование особенностей нанесения нанослоев Al$_2$O$_3$ методом атомно-слоевого осаждения на структурированные пленки ITO”, Физика и техника полупроводников, 2022, том 56, выпуск 8,страницы 825

Эта публикация цитируется в 1 статье

Изготовление, обработка, тестирование материалов и структур

Исследование особенностей нанесения нанослоев Al$_2$O$_3$ методом атомно-слоевого осаждения на структурированные пленки ITO

Л. К. Марков^a, А. С. Павлюченко^a, И. П. Смирнова^a, М. В. Меш^b, Д. С. Колоколов^b, А. П. Пушкарев^c

^a Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук, 194021 Санкт-Петербург, Россия
^b АО "СКТБ Кольцова", 198097 Санкт-Петербург, Россия
^c Университет ИТМО (физический факультет), 197101 Санкт-Петербург, Россия

Аннотация: Изучались просветляющие наноструктурированные покрытия ITO/Al$_2$O$_3$, имеющие градиент эффективного показателя преломления в направлении, перпендикулярном плоскости подложки. Исследуемые покрытия были получены методом атомно-слоевого осаждения оксида алюминия на структурированные пленки ITO. Средствами просвечивающей электронной микроскопии показано, что осажденный наноразмерный слой оксида алюминия обладает хорошим качеством и равномерно обволакивает нитевидные кристаллы ITO. Как оказалось в экспериментах, толщина получаемого слоя Al$_2$O$_3$ зависит от толщины и, как следствие, степени развитости поверхности исходной пленки ITO. Получаемые толщины могут быть в несколько раз тоньше, чем планировалось в эксперименте, исходя как из расчетов параметров процесса атомно-слоевого осаждения, так и из непосредственных измерений скорости осаждения оксида алюминия на пленки неструктурированного ITO. Возможной причиной, влияющей на скорость роста слоя Al$_2$O$_3$ в наноструктурированных пленках ITO, является сильный рост площади поверхности пленки ITO при ее структурировании. Так, оценка для пленки структурированного ITO толщиной 700 нм, проведенная на основе данных просвечивающей и сканирующей микроскопии, показала, что площадь ее поверхности более чем в 20 раз превышает площадь гладкой пленки.

Ключевые слова: нанослои Al$_2$O$_3$, ITO, наноструктурированные покрытия.

Поступила в редакцию: 08.04.2022
Исправленный вариант: 05.05.2022
Принята в печать: 02.06.2022

DOI: 10.21883/FTP.2022.08.53153.9856