Аннотация:
Предложен способ травления фотодиодных InAs/InAsSbP-гетероструктур с помощью нового прецезионного травителя HBr : KMnO$_4$ с низкой постоянной скоростью травления. Изменение соотношения компонентов травителя дает возможность задавать скорость травления в диапазоне 0.1–1.6 мкм/мин без ухудшения качества боковой поверхности мезаструктуры. Применение HBr : KMnO$_4$ при создании InAs/InAsSbP-фотодиодов позволило снизить обратные темновые токи и уменьшить разброс их величины от прибора к прибору. Образцы с диаметром чувствительной площадки 300 мкм демонстрируют минимальную плотность тока $j$ = 5.7$\cdot$10$^{-2}$ А/см$^2$ и типичную – $j$ = 15.5$\cdot$10$^{-2}$ А/см$^2$. Максимальное значение $R_0$ при комнатной температуре составляет 1654 Ом, при этом $R_0A$ – 1.17 Ом·см$^2$.