Аннотация:
Исследовано влияние компенсирующих слоев AlGaAsP, GaAsP и AlGaAs/GaAsP на оптическое качество активной области на основе InGaAs/GaAs-квантовых ям для светодиодов, излучающих на длине волны 940 нм. Методом металлоорганической газофазной эпитаксии выращены гетероструктуры с множественными квантовыми ямами с применением различных подходов к компенсации структурных напряжений. Продемонстрировано увеличение интенсивности фотолюминесценции более чем на 32% при использовании AlGaAs/GaAsP-компенсирующих слоев.