Аннотация:
Методом инфракрасного фотоотражения измерены многослойные фотоприемные гетероструктуры кадмий-ртуть-теллур, выращенные методом молекулярно-лучевой эпитаксии на Si- и GaAs-подложках. По периоду наблюдаемых в спектрах осцилляций Франца–Келдыша бесконтактно определена напряженность встроенного интерфейсного электрического поля вблизи гетерограницы “рабочий слой – варизонный приповерхностный слой”. Аналитический расчет распределения этого поля по глубине структуры показал область формирования фотомодуляционного сигнала. Экспериментально полученные значения полей оказались выше расчетных, что объясняется влиянием фотоэдс.