RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Физика и техника полупроводников // Архив

Физика и техника полупроводников, 2024, том 58, выпуск 9, страницы 493–496 (Mi phts6788)

Международная конференция ФизикА.СПб/2024, 21-25 октября 2024 г., Санкт-Петербург

Облучение ионами аргона диодов Шоттки на основе 4H-SiC

А. М. Стрельчук, Е. В. Калинина, М. Ф. Кудояров, М. Я. Патрова

Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук, 194021 Санкт-Петербург, Россия

Аннотация: Исследовано влияние облучения ионами аргона с энергией 53 МэВ в диапазоне доз (1–7) $\cdot$ 10$^{10}$ см$^{-2}$ на вольт-амперные характеристики диодов Шоттки Cr/SiC(4H) с уровнем легирования эпитаксиального слоя $\sim$10$^{14}$–3 $\cdot$ 10$^{15}$ см$^{-3}$. В характеристиках диодов как до облучения, так и после него обнаружены и обсуждаются эффекты, затрудняющие интерпретацию результатов, оценку радиационной стойкости диодов и подтверждающие влияние дефектов эпитаксиального слоя на характеристики диодов. Дана верхняя оценка величины пороговой дозы облучения D$_{\mathrm{th}}$ ($\sim$6 $\cdot$ 10$^9$ см$^{-2}$) ионами Ar$^{8+}$ с энергией 53 МэВ.

Ключевые слова: SiC, диод Шоттки, облучение Ar$^{8+}$, IV характеристики, шунты, дефекты.

Поступила в редакцию: 03.05.2024
Исправленный вариант: 08.07.2024
Принята в печать: 30.10.2024

DOI: 10.61011/FTP.2024.09.59309.6576A



Реферативные базы данных:


© МИАН, 2026