RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Физика и техника полупроводников // Архив

Физика и техника полупроводников, 2017, том 51, выпуск 7, страницы 877–879 (Mi phts6088)

Эта публикация цитируется в 12 статьях

XV Международная конференция ''Термоэлектрики и их применения-2016'', Санкт-Петербург, 15-16 ноября 2016 г.

Измерение толщины блочных пленок висмута методом атомно-силовой микроскопии с применением избирательного химического травления

Е. В. Демидов, В. А. Комаров, А. Н. Крушельницкий, А. В. Суслов

Российский государственный педагогический университет им. А. И. Герцена, г. Санкт-Петербург

Аннотация: С использованием атомно-силовой микроскопии и избирательного химического травления предложен способ измерения толщины блочных пленок. Предложенный способ апробирован для тонких пленок висмута на слюде, полученных методом термического испарения в вакууме.

Поступила в редакцию: 27.12.2016
Принята в печать: 12.01.2017

DOI: 10.21883/FTP.2017.07.44631.17


 Англоязычная версия: Semiconductors, 2017, 51:7, 840–842

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2026