RUS
ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ
// Физика и техника полупроводников
// Архив
Физика и техника полупроводников,
1987
, том 21,
выпуск 2,
страницы
357–360
(Mi phts590)
Краткие сообщения
Распределение ионно-имплантированной примеси в кремнии после многократного импульсного электронного отжига
А. В. Двуреченский
, Н. М. Игонина
, Р. Гртцшель
Полный текст:
PDF файл (566 kB)
©
МИАН
, 2026