RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Физика и техника полупроводников // Архив

Физика и техника полупроводников, 1987, том 21, выпуск 2, страницы 357–360 (Mi phts590)

Краткие сообщения

Распределение ионно-имплантированной примеси в кремнии после многократного импульсного электронного отжига

А. В. Двуреченский, Н. М. Игонина, Р. Гртцшель




© МИАН, 2026