Аннотация:
Исследована фотолюминесценция аморфных
сверхрешеток $a$-Si : H/$a$-SiN$_{x}$ : H ($x=0.3$).
Показано, что с уменьшением толщины слоя Si
сдвигается вверх по энергии не только линия,
обусловленная переходами между «хвостами»
плотности состояний, но и линия, обусловленная
переходами глубокий уровень$-$хвост валентной зоны.
Это явление связывается с квантово-размерным эффектом.
Примесь азота влияет на положение линий фотолюминесценции
в случае толстых слоев $a$-Si : Н.