Физика и техника полупроводников,
1990, том 24, выпуск 3,страницы 488–491(Mi phts3761)
Влияние технологии приготовления пленок $a$-Si : H на излучательную
рекомбинацию
Ж. Атаев, В. А. Васильев, А. С. Волков, О. И. Коньков, Е. И. Теруков
Аннотация:
Исследованы основные характеристики стационарной
фотолюминесценции в пленках $a$-Si : H, приготовленных
разложением силан-аргоновой смеси ($m$SiH$_{4}{-}(100-m)$Ar)
в ВЧ тлеющем разряде, в зависимости от величины $m$ и
средней мощности разряда $P$. Установлены корреляция между квантовой эффективностью
излучательной рекомбинации, положением максимума и
полушириной спектра излучения, константой, характеризующей
температурное гашение люминесценции, и содержанием водорода
в пленках. На основании анализа полученных данных сделан
вывод о том, что изготовленные при $m=40{-}60$ % и
$P \leqslant 0.3$ Вт/см$^{2}$ пленки обладают
наименьшей дефектностью и минимальной плотностью
протяженности хвостов локализованных состояний в щели подвижности.