Физика и техника полупроводников,
1986, том 20, выпуск 9,страницы 1577–1581(Mi phts364)
Влияние электронного облучения на диффузию примесей
в монокристаллических полупроводниках
Ю. Н. Казаринов, В. В. Козловский, В. Н. Ломасов, М. В. Питкевич
Аннотация:
Методами меченых атомов, вторично-ионной масс-спектрометрии
и путем электрических измерений параметров образцов проведены
исследования радиационно-стимулированной диффузии бора и золота в кремнии
и серебра в селениде свинца. Показано, что ускорение диффузии под действием
электронного облучения вызывается исключительно генерацией избыточных
вакансий, а не ионизационными процессами в облученном полупроводнике.
Установлено, что наблюдавшееся в ряде работ перемещение
$p{-}n$-перехода в кремнии, легированном бором, связано не с диффузией
бора при электронном облучении, а с образованием электроактивных дефектов.