Аннотация:
Изучено влияние одноосного сжатия вдоль направлений [111], [110] и [100]
на параметры температурно-электрической неустойчивости
в Si$\langle$Mn$\rangle$. Характер, условия возбуждения и изменение
параметров зависят от направления сжатия. При сжатии вдоль [111] и
[110] с ростом давления $P$ пороговое поле и амплитуда колебаний
увеличиваются, а частота убывает. При некотором $P_{\text{к}}$ колебания
в цепи срывались. При сжатии в направлении [100] пороговое поле сначало
убывало, достигало минимума, затем нарастало. При некотором поле,
меньшем порогового, наблюдался интервал $P$, где возникали
колебания тока, т. е. ТЭН,
стимулированная сжатием. Наблюдаемые особенности объясняются различным изменением
заселенности глубокого уровня, связанного с атомом марганца,
при сжатии в различных направлениях.