Аннотация:
На основе тщательного анализа всех опубликованных данных
по измерениям коэффициентов ударной ионизации электронами
$\alpha_{n}$ и дырками $\alpha_{p}$ в полупроводниках получены наиболее
правдоподобные аналитические зависимости $\alpha_{n,p}$ от
напряженности электрического поля $E$. Эти зависимости использованы
для численных расчетов напряжения лавинного
пробоя $U_{b}$ резко асимметричных, линейных и диффузионных
$p{-}n$-переходов в Si, Ge, SiC, GaAs, GaP и InP в широком
диапазоне значений параметров. Результаты расчетов представлены
в виде графиков и простых интерполяционных формул, пригодных для выполнения
инженерных расчетов. Отмечена аномально высокая электрическая прочность
фосфида индия и карбида кремния.