RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Физика и техника полупроводников // Архив

Физика и техника полупроводников, 1988, том 22, выпуск 12, страницы 2177–2181 (Mi phts3158)

Влияние магнитного поля на вольтамперные характеристики плавных $p^{+}{-}n$-гетероструктур из Al$_{x}$Ga$_{1-x}$As

А. А. Каваляускас, Г. П. Пека, П. В. Приступа, А. Н. Смоляр, С. Д. Черюканов, А. Л. Шиленас, Е. А. Шимулите


Аннотация: Исследовано влияние слабого поперечного магнитного поля на вольтамперные характеристики плавных $p^{+}{-}n$-гетероструктур из Al$_{x}$Ga$_{1-x}$As (${0\leqslant x\leqslant0.43}$) при прямом и обратном смещениях. Особенностью ВАХ при прямом смещении является наличие участка ОДС $S$-типа, параметры которого существенно зависят от величины и направления магнитного поля. Высокая магниточувствительность (${\sim80}$ В/Т при прямом смещении и ${\sim20}$ В/Т — при обратном) объясняется магнитоконцентрационным эффектом в варизонной базе, неоднородной по времени жизни инжектированных неосновных носителей заряда, и тянущим встроенным квазиэлектрическим полем.



© МИАН, 2026