Аннотация:
Исследовано влияние поля поверхностного поляритона
на фотоответ структуры металл–полупроводник. Рассмотрена задача
о возбуждении поверхностного поляритона в трехслойной системе
диэлектрик–металлический слой–полупроводник в приближении толстого
слоя металла при наличии рельефной дифракционной решетки на границах
раздела. Получено выражение для напряженности электрического поля
и вектора Пойнтинга поверхностного поляритона в полупроводнике
в зависимости от параметров металлического слоя и полупроводника.
Проведено сравнение теоретических зависимостей с экспериментальными.