Аннотация:
Путем измерений ИК поглощения на электронных переходах, связанных с мелкими
уровнями фосфора в кремнии, концентрации свободных носителей, концентрации
радиационных дефектов методом DLTS проведено исследование изменения
концентрации узлового фосфора в кремнии с различным содержанием кислорода
и углерода при облучении электронами с энергией 3.5 МэВ
при температурах 20 и $180^{\circ}$С.
Показано, что убыль узлового фосфора определяется не только
образованием $E$-центров. Анализ данных по облучению кремния с различным
содержанием углерода и кислорода и восстановлению концентрации
узлового фосфора при отжигах дает возможность предположить наличие
взаимодействия атомов фосфора с междоузельными атомами кремния, в частности
вытеснение из узла. Превышение убыли концентрации фосфора над изменениями
концентрации свободных носителей свидетельствует о формировании при облучении
$n$-Si(P) мелких донорных центров.