Аннотация:
Приведены результаты исследования пространственного распределения дефектов, возникающих в кристаллах Ge при облучении
$\alpha$-частицами (40 МэВ). Показано, что распределение дефектов, играющих роль рекомбинационных центров, оказывает определяющее влияние на диффузионно-рекомбинационные процессы в полупроводнике. Определено сечение захвата носителей на рекомбинационные центры (${\sigma\sim10^{-15}\,\text{см}^{2}}$). Введено представление о
рекомбинационной стенке, возникающей в области максимума концентрации радиационных дефектов. Проведено сравнение экспериментальных данных с развитыми теоретическими представлениями. Показано, что исследование ФЭМ
эффекта может дать информацию как о виде пространственного распределения радиационных дефектов, так и о рекомбинационных параметрах облученных полупроводников.
УДК:
621.315.592
Поступила в редакцию: 27.07.1983 Принята в печать: 28.07.1983