Аннотация:
Проведены исследования люминесцентных свойств
пластически деформированных структур InAsSbP/InAs. Выращивание слоев твердого
раствора производилось в области температур, когда пластичность подложки
достаточно высока. При этом релаксация напряжений, вызванных несоответствием
параметров решетки слоя и подложки, происходит за счет образования дислокаций
в подложке гетероструктуры и сопровождается ее изгибом. Слои твердого раствора
характеризуются низкой плотностью дислокаций
(${\sim10^{4}\div10^{5}\,\text{см}^{-2}}$)
и малой долей остаточных упругих напряжений. Форма спектров фотолюминесценции (ФЛ) $n$-InAsSbP свидетельствует о прямых
переходах из-под уровня Ферми на верх валентной зоны и хорошо описывается
теорией, учитывающей термализацию носителей заряда и отсутствие заметных
флуктуаций потенциала, вызванных неоднородностью состава. Показано, что интенсивность ФЛ остается постоянной по всей толщине эпислоя,
за исключением узкой области вблизи гетерограницы. Квантовый выход ФЛ толстых слоев велик, сравним с квантовым выходом
$n$-InAs и не зависит ни от рассогласования параметров решеток
на гетерогранице, ни от плотности дислокаций в эпислое в исследуемом
интервале этих величин.