Аннотация:
Проведен теоретический анализ особенностей
фотопреобразования в поверхностно-барьерных структурах на основе аморфного
кремния, насыщенного водородом. Установлено, что основными физическими
факторами, ограничивающими эффективность фотопреобразования, в данном случае
являются диффузионный уход генерированных светом электронов в выпрямляющий
контакт, а также малость диффузионной длины. Получены аналитические выражения для зависимости полезной
мощности фотопреобразования от основных параметров поверхностно-барьерных
структур. Теоретически проанализирована зависимость полезной
мощности фотопреобразования от типа используемых структур.