Аннотация:
Исследованы оже-профили состава InGaAsP/GaAs-
и InGaAsP/InP-гетероструктур с супертонкими активными областями, выращенных
модифицированным методом жидкостной эпитаксии. Для определения толщины
активной области данных структур использован также экспрессный люминесцентный
метод, результаты которого оказались в хорошем количественном соответствии
с данными оже-спектрометрии. Показано, что модифицированная технология
жидкостной эпитаксии в сдвиговой кассете позволяет получать для гетероструктур
в системе In$-$Ga$-$As$-$Р толщины активных слоев порядка сотен ангстрем,
а протяженность переходных областей на гетерограницах при этом не превышает
100 Å.