Аннотация:
Изучены вольтамперные (ВАХ) и вольтфарадные (ВФХ) характеристики поверхностно-
барьерных структур на основе твердых растворов GaAs$_{1-x-y}$Sb$_{x}$P$_{y}$,
отличающихся толщиной диэлектрического слоя между металлом и полупроводником. Показано, что наличие промежуточного диэлектрического слоя приводит
к существенному уменьшению прямого и обратного токов, резкому возрастанию
коэффициента неидеальности на прямых ветвях ВАХ,
при этом механизм токопрохождения определяется ТОПЗ. В структурах с толщиной диэлектрического слоя около 1500 Å
наблюдается эффект переключения проводимости: при определенной величине
обратного напряжения структура из исходного слабопроводящего состояния
переходит в высокопроводящее состояние. Обсуждаются модели,
объясняющие этот эффект.