Аннотация:
С помощью измерения коэффициента поглощения ИК излучения
за краем собственного поглощения (${\lambda= 10.6}$ мкм) кристаллов
Cd$_{x}$Hg$_{1-x}$Te (${x=0.21\div0.25}$) изучена кинетика диффузионных
процессов, приводящих к изменению отклонения химического состава кристаллов
от стехиометрического. Наблюдаемая форма концентрационного профиля собственных
дефектов свидетельствует о протекающих в процессе диффузии квазихимических
реакциях взаимодействия между дефектами. Показано, что наблюдаемые диффузионные
профили хорошо согласуются с теоретическими в случае диффузии быстрых
междоузельных атомов ртути в среде со случайно распределенными
«ловушками» — вакансиями ртути. Определена температурная
зависимость коэффициента химической диффузии ртути в насыщенных парах
ртути в диапазоне температур ${280\div420^{\circ}}$С.