Аннотация:
Измерены спектры ИК фотопроводимости
(${\hbar\omega=0.4\div0.73}$ эВ), температурные зависимости
стационарной фотопроводимости и люксамперные характеристики (ЛАХ) пленок
$a$-Si : Н (полученных разложением моносилана в тлеющем
высокочастотном разряде) в интервале температур ${350\div210}$ K
в условиях собственной подсветки. Наблюдались температурное гашение
стационарной фотопроводимости и суперлинейный ход люксамперных характеристик,
что указывает на наличие двух типов центров рекомбинации в запрещенной зоне.
Определены пороговые энергии для ИК фотопроводимости при различных уровнях
подсветки и обнаружена корреляция пороговых энергий с положением квазиуровня
Ферми для свободных носителей. Обсуждаются вопросы распределения плотности
состояний в щели подвижности.