ТЕХНИКА

Влияние режимов магнетронного распыления на свойства тонких пленок оксида ванадия

А. И. Занько, А. Е. Жамойть, А. Г. Шидловский

ОАО «ИНТЕГРАЛ» – управляющая компания холдинга «ИНТЕГРАЛ», Минск

Аннотация: Исследован процесс магнетронного распыления ванадиевой мишени в среде аргона и кислорода. Получены гистерезисные зависимости изменения тока катода от содержания кислорода и мощности распыления. Температурный коэффициент сопротивления полученных тонких пленок оксида ванадия при их удельном сопротивлении до 0,1 Ом$\cdot$м достигает 2,6% / $^\circ$С. Установлено, что наиболее подходящие пленки оксида ванадия для инфракрасных фотоприемных устройств имеют аморфную структуру с кристаллическими фазами.

Ключевые слова: магнетронное распыление, ток катода, удельное сопротивление, температурный коэффициент сопротивления, терморезистор.

УДК: 621.793

Поступила в редакцию: 15.04.2025

DOI: 10.54341/20778708_2025_4_65_85