RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Оптика и спектроскопия // Архив

Оптика и спектроскопия, 2023, том 131, выпуск 7, страницы 941–948 (Mi os1399)

Эта публикация цитируется в 1 статье

Лазерная физика и лазерная оптика

Генерация и тушение в XeCl$^*$ эксимерном лазере при накачке смешанным гамма-нейтронным излучением ядерного реактора

А. И. Миськевич

Национальный исследовательский ядерный университет "МИФИ", 115409 Москва, Россия

Аннотация: Экспериментально обнаружено снижение коэффициента усиления активной среды эксимерного лазера с ядерной накачкой на В–Х- и С–А-переходах молекулы XeCl$^*$ (308 nm, 352 nm) при накачке среды Ar–Xe–CCl$_4$ смешанным гамма-нейтронным излучением ядерного реактора. Эффект обусловлен тушащим действием вторичных электронов, образующихся в активной среде эксимерного лазера под действием мгновенного гамма-излучения. Эффект значительно усиливается при увеличении плотности потока гамма-излучения, и коэффициент потерь может достигать значений $\sim$10$^{-2}$–2 $\cdot$ 10$^{-2}$ сm$^{-1}$.

Ключевые слова: ядерная накачка, эксимерный лазер, гамма-излучение, тушение электронами.

Поступила в редакцию: 20.01.2023
Исправленный вариант: 09.02.2023
Принята в печать: 07.06.2023

DOI: 10.21883/OS.2023.07.56129.4549-23



Реферативные базы данных:


© МИАН, 2026