Аннотация:
Исследованы возможности многопараметрового определения свойств структур на основе данных о зависимости коэффициентов отражения поляризованного излучения $R_p$, $R_s$ и отношения $R_p/R_s$ от угла падения $\theta$, а также на основе угловой зависимости $1/R_p(\Delta R/\Delta\theta)$. Данные натурных и вычислительных экспериментов показали высокую чувствительность угловой зависимости коэффициента отражения $R_p(\theta)$ к значениям оптических констант и толщине слоистых структур. Количественные результаты многопараметровых измерений проверены независимым методом спектральной эллипсометрии. Установлены возможности многопараметрового определения свойств и толщины нанометровых диэлектрических, металлических и полупроводниковых слоев на различных подложках и свойств подложек в таких структурах.
Поступила в редакцию: 28.05.2009 Принята в печать: 12.02.2010