RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Журнал технической физики // Архив

ЖТФ, 2010, том 80, выпуск 10, страницы 89–94 (Mi jtf9583)

Эта публикация цитируется в 7 статьях

Оптика, квантовая электроника

Определение оптических свойств и толщины нанослоев по угловым зависимостям коэффициента отражения

Д. И. Биленко, А. А. Сагайдачный, В. В. Галушка, В. П. Полянская

Саратовский государственный университет им. Н. Г. Чернышевского, 410012 Саратов, Россия

Аннотация: Исследованы возможности многопараметрового определения свойств структур на основе данных о зависимости коэффициентов отражения поляризованного излучения $R_p$, $R_s$ и отношения $R_p/R_s$ от угла падения $\theta$, а также на основе угловой зависимости $1/R_p(\Delta R/\Delta\theta)$. Данные натурных и вычислительных экспериментов показали высокую чувствительность угловой зависимости коэффициента отражения $R_p(\theta)$ к значениям оптических констант и толщине слоистых структур. Количественные результаты многопараметровых измерений проверены независимым методом спектральной эллипсометрии. Установлены возможности многопараметрового определения свойств и толщины нанометровых диэлектрических, металлических и полупроводниковых слоев на различных подложках и свойств подложек в таких структурах.

Поступила в редакцию: 28.05.2009
Принята в печать: 12.02.2010


 Англоязычная версия: Technical Physics, 2010, 55:10, 1478–1483

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2026