Краткие сообщения

Влияние мелкодисперсных слоев на основе ванадия на кратность фотоответа в структурах с аморфными пленками As$_2$Se$_3$

В. Д. Прилепов, П. А. Гашин, А. Б. Кирица, Д. М. Споялэ

Молдавский государственный университет, MD-2009 Кишинев, Молдавия

Аннотация: Представлены технологические особенности получения мелкодисперсных структур на основе ванадия, в том числе с разветвленной (фрактальной) поверхностью. Показано, что при нанесении аморфных пленок As$_2$Se$_3$ на полученные фрактальные поверхности кратность фотоответа данной структуры увеличивается.

Поступила в редакцию: 23.09.2009

 Англоязычная версия: Technical Physics, 2010, 55:5, 747–749

Реферативные базы данных:

•