RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Журнал технической физики // Архив

ЖТФ, 2010, том 80, выпуск 4, страницы 156–158 (Mi jtf9433)

Эта публикация цитируется в 4 статьях

Краткие сообщения

Энергии связи 2$p$ электронов кремния в силицидах железа

М. В. Гомоюнова, И. И. Пронин

Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук, 194021 Санкт-Петербург, Россия

Аннотация: Проанализированы и обобщены экспериментальные данные по энергиям связи Si 2$p$ электронов в ряде стабильных и метастабильных силицидов железа, сформированных методом твердофазной эпитаксии на двух реконструированных гранях монокристаллического кремния – Si(100)2 $\times$ 1 и Si(111)7 $\times$ 7. Измерения спектров остовных электронов проводились методом фотоэлектронной спектроскопии высокого энергетического разрешения с использованием синхротронного излучения. Показано, что значения энергии связи Si 2$p$ электронов в стабильных силицидах, а также твердом растворе кремния в железе, возрастают с увеличением содержания в них кремния. Это обусловлено ослаблением роли межатомной релаксации в акте возбуждения фотоэлектрона.

Поступила в редакцию: 29.09.2009


 Англоязычная версия: Technical Physics, 2010, 55:4, 588–590

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2026