Аннотация:
На примере монокристаллов Si(As,P,B) и GaSb(Si) продемонстрированы возможности рентгенодифракционных методов диагностики (определения реальной структуры) сильнолегированных кристаллов полупроводников. Особое внимание уделено характеризации состояния примеси – находится она в кристаллах в виде твердого раствора или на разных стадиях его распада. Найдено оптимальное сочетание рентгеновских методов для получения наиболее полной информации о микросегрегации и структурной неоднородности в кристаллах со слабым и сильным поглощением рентгеновских лучей. Основой этого сочетания являются методы рентгеновской дифрационной топографии и дифрактометрии с повышенной чувствительностью к значениям напряжения кристаллической решетки.