RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Журнал технической физики // Архив

ЖТФ, 2010, том 80, выпуск 4, страницы 105–114 (Mi jtf9423)

Эта публикация цитируется в 14 статьях

Оптика, квантовая электроника

Методы рентгеновской дифракционной диагностики сильнолегированных монокристаллов полупроводников

И. Л. Шульпинаa, Р. Н. Кюттa, В. В. Ратниковa, И. А. Прохоровb, И. Ж. Безбахb, М. П. Щегловa

a Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук, 194021 Санкт-Петербург, Россия
b Научно-исследовательский центр "Космическое материаловедение" Института кристаллографии РАН, Калуга, Россия

Аннотация: На примере монокристаллов Si(As,P,B) и GaSb(Si) продемонстрированы возможности рентгенодифракционных методов диагностики (определения реальной структуры) сильнолегированных кристаллов полупроводников. Особое внимание уделено характеризации состояния примеси – находится она в кристаллах в виде твердого раствора или на разных стадиях его распада. Найдено оптимальное сочетание рентгеновских методов для получения наиболее полной информации о микросегрегации и структурной неоднородности в кристаллах со слабым и сильным поглощением рентгеновских лучей. Основой этого сочетания являются методы рентгеновской дифрационной топографии и дифрактометрии с повышенной чувствительностью к значениям напряжения кристаллической решетки.

Поступила в редакцию: 26.02.2009


 Англоязычная версия: Technical Physics, 2010, 55:4, 537–545

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2026