Аннотация:
Исследовано влияние основных действующих факторов метода искрового плазменного спекания (прикладываемое давление, температура и длительность изотермической выдержки) на процессы консолидации частиц субмикронных оксидных порошковых композиций с различным содержанием оксида индия, кинетику уплотнения и микроструктуру формирующейся керамики. Целью работы было получение керамики высокой плотности трех актуальных для практического применения составов: In$_2$O$_3$-SnO$_2$ в весовом соотношении 9:1, In$_2$O$_3$-ZnO в весовом соотношении 9:1 и In$_2$O$_3$-Ga$_2$O$_3$-ZnO в весовом соотношении 1:1:1. Установлено, что при искровом плазменном спекании всех трех составов существует максимальная температура изотермической выдержки (950$^\circ$C), выше которой начинается снижение плотности со значительной потерей массы исходной навески, обусловленное интенсификацией процесса термического разложения оксида индия. Проведена оптимизация режимов спекания, по результатам которой получены керамические мишени диаметром 50 mm относительной плотностью не ниже 94% от расчетной плотности для каждого состава. Тестовое магнетронное распыление полученных мишеней показало высокую стабильность разряда, без признаков дугообразования, что свидетельствует о высокой однородности их состава и свойств.
Полный текст:
PDF файл (1376 kB)