Н. А. Феоктистов, В. И. Сахаров, И. Т. Серенков, В. А. Толмачев, И. В. Коркин, А. Е. Алексенский, А. Я. Вуль, В. Г. Голубев, “Аэрозольное нанесение детонационных наноалмазов в качестве зародышей роста нанокристаллических алмазных пленок и изолированных частиц”, ЖТФ, 2011, том 81, выпуск 5,страницы 132

Эта публикация цитируется в 18 статьях

Поверхность, электронная и ионная эмиссия

Аэрозольное нанесение детонационных наноалмазов в качестве зародышей роста нанокристаллических алмазных пленок и изолированных частиц

Н. А. Феоктистов, В. И. Сахаров, И. Т. Серенков, В. А. Толмачев, И. В. Коркин, А. Е. Алексенский, А. Я. Вуль, В. Г. Голубев

Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук, 194021 Санкт-Петербург, Россия

Аннотация: Детально исследован процесс аэрозольного нанесения детонационных наноалмазов (ДНА) на кремниевую подложку и продемонстрирована возможность последующего выращивания на подложках с ДНА нанокристаллических алмазных пленок и изолированных частиц. Показано, что, изменяя время нанесения и весовую концентрацию ДНА в суспензии в диапазоне 0.001–1%, возможно изменять форму агломератов ДНА и их число на единицу площади поверхности подложки $(N_s)$ от 10$^8$ до 10$^{11}$ cm$^{-2}$. Методом микроволнового плазмохимического осаждения из газовой фазы на подложке с осажденными агломератами ДНА с $N_s\approx$ 10$^8$ cm$^{-2}$ выращены субмикронные изолированные алмазные частицы. При $N_s\approx$ 10$^{10}$ cm$^{-2}$ выращены тонкие ($\sim$100 nm) наноалмазные пленки со среднеквадатичной шероховатостью поверхности, не превышающей 15 nm.

Поступила в редакцию: 21.10.2010