RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Журнал технической физики // Архив

ЖТФ, 2011, том 81, выпуск 2, страницы 147–149 (Mi jtf9062)

Эта публикация цитируется в 12 статьях

Краткие сообщения

Влияние термообработки на структуру и термоэлектрические свойства CrSi$_2$

Ф. Ю. Соломкинa, Е. И. Сувороваb, В. К. Зайцевa, С. В. Новиковa, А. Т. Бурковa, А. Ю. Самунинa, Г. Н. Исаченкоa

a Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук, 194021 Санкт-Петербург, Россия
b Институт кристаллографии им. А. В. Шубникова РАН, 119333 Москва, Россия

Аннотация: Исследованы текстурированные образцы CrSi$_2$, полученные нагреванием мелкодисперсных исходных компонентов (Cr и Si). Использование смеси порошков (Cr и Si) позволило снизить температуру начала синтеза CrSi$_2$ на 100 K. Обнаружено влияние условий кристаллизации и последующего отжига на термоэлектрические свойства и стехиометрический состав образцов.

Поступила в редакцию: 25.05.2010


 Англоязычная версия: Technical Physics, 2011, 56:2, 305–307

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2026