Эта публикация цитируется в 12 статьях

Поверхность, электронная и ионная эмиссия

Исследование температурной зависимости кинетики необратимого ухода атомов цезия из паровой фазы в антирелаксационное покрытие

М. В. Балабас^ab, О. Ю. Третьяк<sup>b

a</sup> Федеральное государственное унитарное предприятие "Научно-производственная корпорация "Государственный оптический институт им. С.И. Вавилова" 199034 Санкт-Петербург, Россия
^b Санкт-Петербургский государственный университет, 198504 Санкт-Петербург, Россия

Аннотация: Проведено экспериментальное исследование кинетики ухода атомов цезия в антирелаксационное покрытие в температурном интервале от 298 до 335 K в кювете с затвором при отдельном термостатировании рабочего объема кюветы и отростка с металлом. Найдено, что при всех условиях эксперимента кинетическая кривая хорошо описывается двуэкспоненциальной функцией – быстрой и медленной. Установлено, что эти кинетики не подчиняются закону Аррениуса для исследованного температурного интервала изменения температуры рабочего объема при неизменной температуре отростка с металлом. При одновременном, но неодинаковом изменении температуры рабочего объема и отростка с металлом температурная зависимость быстрой и медленной компонент кинетики распадается на области, в каждой из которых выполняется закон Аррениуса. Точкой раздела служит, по-видимому, температура плавления материала покрытия. Установлено, что в области высоких температур энергия активации ухода атомов цезия в покрытие примерно на порядок выше, чем в области низких температур.

Поступила в редакцию: 18.07.2011
Принята в печать: 15.12.2011

 Англоязычная версия: Technical Physics, 2012, 57:9, 1257–1265

Реферативные базы данных:

•