М. В. Иванченко, В. А. Гриценко, А. В. Непомнящий, А. А. Саранин, “Усиление электронно-стимулированной десорбции от аморфных пленок оксида алюминия на кремнии при повышении температуры подложки”, ЖТФ, 2012, том 82, выпуск 5,страницы 115

Поверхность, электронная и ионная эмиссия

Усиление электронно-стимулированной десорбции от аморфных пленок оксида алюминия на кремнии при повышении температуры подложки

М. В. Иванченко^ab, В. А. Гриценко^c, А. В. Непомнящий^a, А. А. Саранин^ab

^a Институт автоматики и процессов управления ДВО РАН, 690041 Владивосток, Россия
^b Дальневосточный федеральный университет, 690950 Владивосток, Россия
^c Институт физики полупроводников им. А. В. Ржанова СО РАН, 630090 Новосибирск, Россия

Аннотация: Исследован эффект высокотемпературной электронно-стимулированной десорбции на пленках Al$_2$O$_3$ толщиной 20 nm, нанесенных на подложку кремния. Эффект электронно-стимулированной десорбции значительно усиливается при нагреве. Обнаружен эффект разрушения пленки до появления чистого Al электронным пучком при нагреве подложки, процесс сопровождается формированием островков, а также областей практически чистой поверхности кремния при достижении некоторой дозы облучения. Показано, что вне облученной области даже при нагреве до 700$^\circ$C и отжиге в течение 90 min пленка Al$_2$O$_3$ толщиной 20 nm остается сплошной. Исследовано влияние энергии пучка первичных электронов на эффект электронно-стимулированной десорбции от пленки Al$_2$O$_3$ толщиной 20 nm на кремнии и установлены параметры, при которых электронно-стимулированная десорбция происходит либо не наблюдается.

Поступила в редакцию: 05.08.2011